电路板清洗技术
半水清洗技术
半水清洗主要采用和去离子水，再加上一定量的活性剂、添加剂所组成的清洗剂。该类清洗介于溶剂清洗和水清洗之间。这些清洗剂都属于，属于可燃性溶剂，闪点比较高，毒性比较低，使用上比较安全，但是须用水进行漂洗，然后进行烘干。有些清洗剂中添加5%~20%的水和少量表面活性剂，既降低了可燃性，又可使漂洗更为容易。半水清洗工艺特点是：
1） 清洗能力比较强，组件价格，能同时除去极性污染物和非极性污染物，洗净能力---性较强；
2） 清洗和漂洗使用两种不同性质的介质，漂洗一般采用纯水；
3） 漂洗后要进行干燥。
该技术不足之处在于废液和废水处理是一个较为复杂和尚待解决的问题。
隐裂、热斑、pid效应，是影响晶硅光伏组件性能的三个重要因素。
形成“隐裂”的原因
外力：电池片在焊接、层压、装框或搬运、安装、施工等过程中会受外力，当参数设置不当、设备故障或操作不当时会造成隐裂。
高温：电池片在低温下没有经过预热，然后在短时间内突然受到高温后出现膨胀会造成隐裂现象，如焊接温度过高、层压温度等参数设置不合理。
原材料：原材料的缺陷也是导致隐裂的主要因素之一。
电路板清洗技术
水清洗的缺点是：
1） 在水资源紧缺的地区，组件电池板回收价格，由于该清洗方法需要消耗大量的水资源，从而受到当地自然条件的---；
2） 部分元件不能用水清洗，金属零件容易生锈；
3） 表面张力大，清洗细小缝隙有困难，对残留的表面活性剂很难去除；
4） 干燥难，能耗较大；
5） 设备成本高，需要废水处理装置，设备占地面积较大。
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