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刻蚀

在扩散工序，采用背靠背的单面扩散方式，硅片的侧边和背面边缘不可避免地都会扩散上磷原子。当阳光照射，p-n结的正面收集到的光生电子会沿着边缘扩散有磷的区域流到p-n结的背面，运城组件多少钱，造成短路通路。短路通道等效于降低并联电阻。刻蚀工序是让硅片边缘带有的磷的部分去除干净，避免了p-n结短路并且造成并联电阻降低。

湿法刻蚀工艺流程：上片***蚀刻槽（h2so4hno3hf）***水洗***碱槽（koh）***水洗***hf槽***水洗***下片

hno3反应氧化生成sio2，hf去除sio2。刻蚀碱槽的作用是为了抛光未制绒面，使电池片变得光滑；碱槽的主要溶液为koh；h2so4是为了让硅片在流水线上漂浮流动起来，并不参与反应。

干法刻蚀是用等离子体进行薄膜刻蚀。当气体以等离子体形式存在时，一方面等离子体中的气体化学活性会变得相对较强，选择合适的气体，就可以让硅片更快速的进行反应，实现刻蚀；另一方面，可利用电场对等离子体进行引导和加速，使等离子体具有一定能量，当轰击硅片的表面时，硅片材料的原子击出，可以达到利用物理上的能量转移来实现刻蚀的目的。

清除电路板上腐蚀的技巧

5.涂上家用清洁剂–用家用清洁剂喷涂电路板，使其静置约10至15秒钟。使用干净而柔软的刷子清除残留的腐蚀物。

6.清洁–用无绒或超细纤维毛巾轻轻擦去残留的碎屑或湿气。注意不要擦拭它，因为这可能会导致刮伤。

7.干燥–将烤箱设置为华氏170度，使其达到温度。然后，关闭烤箱电源并将清洁的电路板放置在内部大约三个小时，以干燥残留的水分。完成后，单晶硅组件多少钱，重新组装设备！

与定期维护灰尘相比，如何清洁腐蚀的电路板确实需要更多的注意，但是您可以使用这些方法来延长其使用寿命。