去磷硅玻璃
该工艺用于太阳能电池片生产制造过程中,通过化学腐蚀法也即把硅片放在溶液中浸泡,使其产生化学反应生成可溶性的络和物六,以去除扩散制结后在硅片表面形成的一层磷硅玻璃。在扩散过程中,pocl3与o2反应生成p2o5淀积在硅片表面。p2o5与si反应又生成sio2和磷原子,这样就在硅片表面形成一层含有磷元素的sio2,称之为磷硅玻璃。去磷硅玻璃的设备一般由本体、清洗槽、伺服驱动系统、机械臂、电气控制系统和自动配酸系统等部分组成,营口组件回收,主要动力源有、氮气、压缩空气、纯水,热排风和废水。能够溶解二氧化硅是因为与二氧化硅反应生成易挥发的气体。若过量,反应生成的会进一步与反应生成可溶性的络和物六。
电路板怎么清洗_电路板清洗方法
随后用清水缓缓将电路板冲洗干净。注意:必须把肥皂水冲刷干净。
水洗完毕后,用压力约0.1mpa[即1kg/每平方厘米]干燥的压缩空气吹去水滴,---是跳线插槽,插槽(cpu插槽,agp槽,pci槽,内存槽)的内侧和底部,ic插座的底部,南北桥芯片,bios芯片和其他每一个ic芯片的底下,大电容的底下等地方,更是应从它的不同方向进行吹扫,力求把缝隙里的所有水滴吹干净。如果不具备压缩空气,则可用钟表维修或相机维修的橡皮手泵,不过这玩意可累人了。
6、稍用二次蒸馏水或无水酒精再将电路板洗一次(让焊有元件的一面向上,组件回收价格,斜放着电路板,用10~12号的干净油画笔叫沾上无水酒精由上往下地进行清洗)。用氯化碳则其效果更嘉,不过这东西有毒,光伏组件回收,使用时必须小心,除非很---,否则切勿使用。一般都建议不要使用氯化碳。
至此,清洗结束,这样清洗,不但干净,省钱,而且健康。
电路板清洗技术
半水清洗技术
半水清洗主要采用和去离子水,再加上一定量的活性剂、添加剂所组成的清洗剂。该类清洗介于溶剂清洗和水清洗之间。这些清洗剂都属于,属于可燃性溶剂,闪点比较高,毒性比较低,使用上比较安全,但是须用水进行漂洗,然后进行烘干。有些清洗剂中添加5%~20%的水和少量表面活性剂,既降低了可燃性,又可使漂洗更为容易。半水清洗工艺特点是:
1) 清洗能力比较强,能同时除去极性污染物和非极性污染物,洗净能力---性较强;
2) 清洗和漂洗使用两种不同性质的介质,漂洗一般采用纯水;
3) 漂洗后要进行干燥。
该技术不足之处在于废液和废水处理是一个较为复杂和尚待解决的问题。
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