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pecvd
pe 目的
在硅片表面沉积一层氮化硅减反射膜,以增加入射在硅片上的光的透射,减少反射,氢原子搀杂在氮化硅中附加了氢的钝化作用。
其化学反应可以简单写成 : sih 4 +nh 3 =sin:h+3h 2 。
基本 原理
pecvd 技术原理是利用低温等离子体作能量源,样品置于低气压下辉光放电的阴极上,利用辉光放电(或另加---体)使样品升温到预定的温度,然后通入适量的反应气体,气体经一系列化学反应和等离子体反应,在样品表面形成固态薄膜。 pecvd 方法区别于其它 cvd 方法的特点在于等离子体中含有大量高能量的电子,它们可以提供化学气相沉积过程所需的能。电子与气相分子的碰撞可以促进气体分子的分解、化合、激发和电离过程,生成活性---的各种化学基团,打印机定影组件价格,因而---降低 cvd 薄膜沉积的温度范围,使得原来需要在高温下才能进行的 cvd 过程得以在低温下实现。
基本特征
1. 薄膜沉积工艺的低温化( < 450 ℃ )。
2. 节省能源,降低成本。
3. 提高产能。
4. 减少了高温导致的硅片中少子寿命衰减。
扩散方式
pe 设备有两类:平板式和管式。
按反应方式分为:直接式(岛津)和间接式( roth & rau )。
直接式:基片位于一个电极上,直接接触等离子体。
间接式:基片不接触激发电极。 在微波激发等离子的设备里,等离子产生在反应腔之外,然后由石英管导入反应腔中。在这种设备里微波只激发 nh3 ,而 sih4 直接进入反应腔。间接 pecvd 的沉积速率比直接的要高很多,这对---生产尤其重要。
单晶硅与多晶硅的区别
单晶硅和多晶硅的区别是,当熔融的单质硅凝固时,硅原子以金刚石晶格排列成许多晶核,如果这些晶核长成晶面取向相同的晶粒,则形成单晶硅。如果这些晶核长成晶面取向不同的晶粒,则形成多晶硅。多晶硅与单晶硅的差异主要表现在物理性质方面。例如在力学性质、电学性质等方面,多晶硅均不如单晶硅。多晶硅可作为拉制单晶硅的原料。单晶硅可算得上是上纯净的物质了,一般的半导体器件要求硅的纯度六个9以上。---集成电路的要求更高,硅的纯度必须达到九个9。目
前,人们已经能制造出纯度为十二个9 的单晶硅。单晶硅是电子计算机、自动控制系统等现代科学技术中不可缺少的基本材料。
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四、色调偏色
1、多晶硅片:单个充电电池的色调匀称相同,色调的范畴从深蓝色刚开始,
经暗蓝色、鲜红色、棕褐色、到深褐色中间容许相仿色的偏色(深蓝色和暗蓝色存有单个充电电池上,但不容许跳色),行为主体色调为暗蓝色,单个充电电池容许二种色调。2、多晶硅电池片:同一整片电池片色调匀称相同,色调范畴中沒有深褐色,别的同多晶级的辨别。新的规范:片式上匀称相同的不一样色调的电池片,依照淡蓝色、深蓝色、鲜红色几种开展归类。
b级
1、多晶硅片:单个充电电池色调不匀称,组件价格,容许存有跳色偏色,数跳1个相仿色(比如:鲜红色和深褐色存有于单个充电电池上),行为主体色调为深蓝色-鲜红色范畴,单个充电电池个容许存有几种色调。
2、多晶硅电池片:与多晶电池片对比,只少了行为主体色调,别的同多晶b级的辨别。新的规范:与旧规范同样
c级
1.多晶硅片:同一整片充电电池容许色调不匀称(深蓝色-暗蓝色-鲜红色-棕褐色-深褐色)容许存有跳色偏色,以电池片上能够有***2个相仿色。
2.多晶硅电池片:与多晶电池片对比,色调范畴中少了深褐色,其他同多晶c级的辨别。新的规范:与旧规范同样注:当片式上为匀称相同获得不一样色调,判为,但需依照淡蓝色、深蓝色、鲜红色几种开展单测单包。
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